Печатная версия
Архив / Поиск

Archives
Archives
Archiv

Редакция
и контакты

К 50-летию СО РАН
Фотогалерея
Приложения
Научные СМИ
Портал СО РАН

© «Наука в Сибири», 2019

Сайт разработан и поддерживается
Институтом вычислительных
технологий СО РАН

При перепечатке материалов
или использованиии
опубликованной
в «НВС» информации
ссылка на газету обязательна

Наука в Сибири Выходит с 4 июля 1961 г.
On-line версия: www.sbras.info | Новости | Архив c 1961 по текущий год (в формате pdf), упорядоченный по годам
 
в оглавлениеN 24 (2959) 19 июня 2014 г.

ДВА В ОДНОМ

Институт сильноточной электроники СО РАН посетила иностранная делегация ученых и специалистов из крупного европейского научно-исследовательского учреждения — Национального центра ядерных исследований Польши.

О. Булгакова, г. Томск

Целью визита стало тестирование и приём оборудования, изготовленного по заказу польских партнеров ИСЭ СО РАН и компанией «Микросплав», которая входит в состав кластера инновационных компаний Томского научного центра СО РАН «Новые материалы и наукоёмкие технологии».

Институт сильноточной электроники СО РАН на протяжении многих лет является признанным мировым лидером в сфере разработки сложнейшего электрофизического оборудования, предназначенного как для фундаментальных исследований, так и для использования в различных высокотехнологичных отраслях промышленности.

Иллюстрация
Проф. Збигнев Вернер и ведущий научный сотрудник ИСЭ Григорий Озур в процессе тестирования оборудования.

— Наш научный коллектив изучает влияние электронного пучка и импульсных плазменных пучков на модификацию поверхности материалов, — рассказывает Збигнев Вернер, профессор Национального центра ядерных исследований Польши. — Ранее у нас уже был успешный опыт сотрудничества с Институтом сильноточной электроники, который имеет высокий авторитет среди специалистов Европы и США. В 2002 году мы заказали в институте источник плазменных дуговых разрядов, предназначенный для нанесения плёнок на поверхность. Поставленный нам тогда ускоритель «Титан» активно применяется для исследований. Но у нас возникла потребность в новейшем, передовом оборудовании. Мы предполагали заказать два отдельно работающих устройства, но Институт сильноточной электроники совместно с компанией «Микросплав» смогли разработать единый комплекс.

Для Польского ядерного центра впервые в мире изготовлена установка, в который совмещены две уникальные возможности — возможность имплантации материалов многозарядными ионами и возможность отжига дефектов, возникающих в этих материалах при имплантации, с помощью импульсного сильноточного электронного пучка. Это оборудование предназначено для получения как полупроводниковых, так и металлических материалов, обладающих качественно новыми свойствами, которые будут использоваться в области микроэлектроники и приборостроения.

Польские специалисты привезли с собой ряд образцов: первые эксперименты были проведены уже на томской земле. Обе стороны надеются на продолжение сотрудничества и уже наметили для себя дальнейшие направления совместной работы.

Фото В. Бобрецова

стр. 1

в оглавление

Версия для печати  
(постоянный адрес статьи) 

http://www.sbras.ru/HBC/hbc.phtml?6+729+1